Как и прежде, на образец необходимо подавать небольшие на
пряжения |
V. На фиг. |
23 черными кружками изображены ре |
|||
зультаты, |
рассчитанные для |
системы Та — Та20 5— Аи из изме |
|||
рений токов разрядки |
после |
снятия |
напряжения зарядки |
V = |
|
= 1,0 В. Здесь также |
видно хорошее |
совпадение данных, |
полу |
||
ченных методом переходных характеристик и экстраполяцией соответствующих результатов мостовых измерений. Отсюда сле дует, что нелинейные эффекты не сказываются в этих системах вплоть до напряжений по крайней мере порядка 1 В (эквива лентных полю в окисле 1,5-105В/см). Черки и сотр. [175, 181,
182] наблюдали линейный отклик в подобных системах вплоть до полей 5-105 В/см, причем результаты этих измерений совпа
дали с данными, полученными мостовым методом на перемен ном токе. При использовании в качестве электрода электролита Дрейпер [48] наблюдал на пленках Ta2Os линейный отклик в гораздо более сильных полях напряженностью вплоть до 4 - 10е В/см. Это естественно, поскольку при положительном по тенциале тантала граница раздела окисел — раствор образует сильно блокирующий контакт.
|
в. Влияние пространственного заряда на переходный процесс. |
В |
предыдущем разделе приближенный закон изменения тока |
во |
времени при переходном процессе i ( t ) ~ \ / t интерпретиро |
вался на основе представлений о спаде токов поляризации. Од
нако аналогичную временную зависимость |
токов в системах |
Та — Та20 5— раствор и Si — S i0 2— металл |
Дрейнер [48] и |
Линдмейер [183] объясняли в терминах эффектов пространствен ного заряда. Область пространственного заряда может образо вываться в пленке, например, из-за наличия контактной разно сти потенциалов, а также вследствие инжекции в диэлектрик под действием напряжения избыточных носителей и захвата их на ловушки, обусловленные примесями, структурными дефек тами или аморфной природой диэлектрика. Короткое замыка ние образца, содержащего пространственный заряд, локализо ванный на ловушках, приводит к уменьшению последнего и как следствие к протеканию во внешней цепи тока разряда, сумми рующегося с рассмотренным выше разрядным током, обуслов ленным поляризацией.
На фиг. 24 изображены зонные |
диаграммы окисного |
слоя |
с короткозамкнутыми электродами |
из одинаковых (а и |
в) и |
различных (б, г, д) металлов при отсутствии объемного заряда
(а, б) и при наличии отрицательного объемного заряда (в) с плотностью выше или ниже определенной критической плот ности ( г и д соответственно). Под критической плотностью
объемного заряда понимается величина, при которой зоны изогнуты таким образом, что образуется область с нулевым градиентом потенциала. Линдмейер [183] рассмотрел случай,
представленный на фиг. 24, б. Он показал, что при некоторых предположениях скорость генерации электронов из однородно распределенных по энергии ловушек может следовать закону
вида 1It. Из этого, |
однако, непосредственно |
не вытекает, что |
|
ток во внешней цепи / ВНеш |
будет изменяться |
по такому лее за |
|
кону. В этом случае |
|
|
|
|
/внеш |
t 0 ^ jd t, |
|
где А — площадь электродов, q — заряд электрона и tit — кон
центрация заполненных ловушек. Если предпололсить, что у ин-
6
д
Фиг. 24. Энергетические диаграммы для системы металл — диэлектрик — металл в процессе разрядки.
а — пространственный заряд отсутствует, Ф,=Ф2; б — пространственный заряд отсутствует, Ф(в*Фз; — при наличии пространственного заряда, ф|Ч&ф2; г — плотность пространственного заряда больше критической, Ф|^Ф*; б — плотность пространственного заряда меньше кри тической,
жектирующего контакта мелкие ловушки заполнены относитель но сильнее, то можно заключить, что эта область даст основной вклад на начальной стадии разрядки, поскольку мелкие ло вушки освобождаются быстрее. Таким образом, если генерация электронов из ловушек в этой области следует закону 1It, то
и/внсш будет следовать такому же закону, несмотря на то что
воставшейся части окисла ловушки не разряжаются. Недавно было отмечено [164], что после опустошения ловушек с опреде ленной энергетической глубиной dntldt везде следует закону l/t,
а плотность объемного заряда в окисле становится однородной.
Врезультате х* локализуется в средней точке (1/г) образца и
ток во внешней цепи обращается в нуль.
Однако для диэлектрика, заключенного между электродами с различными работами выхода и с объемным зарядом, на столько малым, что сечение х* (фиг. 24, д) выходит из пределов образца, ток разрядки может следовать закону 1//, а именно
[164]:
Iвпей — qNtkTА • ll2t,
где Nt — константа.
Из этого анализа вытекает, что при некоторых условиях как токи поляризации, так и токи, ограниченные пространственным зарядом, могут при разрядке следовать одному и тому же вре менному закону il/t. Вклад каждого из механизмов во внешний ток можно определить, исследуя линейность / внеш от амплитуды ступеньки напряжения. При достаточно высоких V, обеспечи
вающих инжекцию электронов в окисел, можно ожидать откло нения зависимости /внеш( V) от линейного закона. В случае ин жекции зависимость / ВНеш от V вначале суперлинейна, а при вы
соких напряжениях достигает насыщения *).
г. Модели процессов поляризации. Очень слабая частотная зависимость tg 6, обсуждавшаяся в разд. V, 2, в, обнаружена во
многих практически используемых диэлектриках. Было пока зано, что модель типа слоев Максвелла, по которой проводи мость экспоненциально зависит от координаты по толщине окисла, объясняет независимость е" от частоты [176]. Однако
вытекающие из этой теории зависимости параметров пленок от толщины объяснить весьма трудно. К тому же, как подчеркнул
Смит в недавно вышедшем обзоре [184], эта |
модель |
приводит |
к чрезвычайно большим градиентам в очень |
тонких |
пленках |
') Практически инжекционные токи в диэлектриках не обнаруживают на сыщения при высоких напряжениях и отличаются весьма сложными вольт-ам- перными характеристиками. Соответствующие вопросы детально обсуждаются
в сб. «Вопросы пленочной электроники» |
(«Советское радио», М., |
1966 |
г., |
стр. 83) и монографии М. Ламперта и |
А. Марка «Инжекционные |
токи |
в |
твердых телах» («Мир», М., 1972). — Прим. ред. |
|
|
|
(например, к изменению проводимости на порядок в пределах межатомных расстояний). Необходимо также отметить отсут ствие экспериментальных данных, подтверждающих независи мость t g 6 от частоты в случае очень тонких пленок. Более того,
эксперименты Вуда и Брока [185] с большим числом различных АОП позволяют сделать вывод, что частотная независимость потерь, по всей видимости, не обусловлена вышеупомянутым ме ханизмом, поскольку утоньшение окислов приводило лишь к очень слабому (и никогда к экспоненциальному) изменению проводимости пленки.
По мнению Смита и Ширна [186], для АОП на тантале и ниобии, нагретых до нескольких сотен градусов в воздухе или в кислороде, а затем закаленных, рассмотренная выше модель яв ляется справедливой. Наблюдавшееся ими экспоненциальное изменение проводимости по толщине окисла связывалось с из менением стехиометрии, обусловленным, по-видимому, суще ствованием в пленках равновесия между процессами восстанов ления, контролируемыми металлической подложкой, и процесса ми окисления в окружающей атмосфере. Необходимо согласиться со Смитом [184], подчеркнувшим значимость того факта, что диэлектрические свойства отожженных АОП на тантале и нио бии связаны с экспоненциальной зависимостью проводимости от толщины, тогда как диэлектрические свойства неотожженных пленок нельзя объяснить на этой основе без привлечения иных механизмов, хотя и в том и другом случае математически эти свойства описываются совершенно эквивалентными выраже ниями.
В случае неотожженных пленок для системы Т а — Ta2Os Одним из таких механизмов, по мнению Леховека [187], может быть туннелирование электронов из металлической подложки (Та) в окисел. Локальные состояния, на которые туннелируют электроны, обусловлены предположительно вакансиями кисло рода. Скорость перехода электронов в эти состояния про порциональна электронной плотности. В результате получается требуемая экспоненциальная зависимость электропроводности от координаты d по толщине окисла, отсчитанной от границы раздела: e~2Kd, где / ( — волновое число. Таким образом, для по стоянной времени процесса обмена имеем %' =x'0e2Kd. Предэкспо-
ненциальный множитель получается в результате соответ ствующего усреднения по всем энергиям туннелирующих элек-. тронов и по сечениям захвата локальных состояний.
В этой модели считается, что т' и К' не зависят от прило
женного к пленке напряжения. Фактически же эта зависимость имеет место; она обусловлена влиянием электрического поля на форму потенциального барьера, через который туннелируют
электроны. Кроме того, по оценке Леховека, концентрация ло кальных центров достигает 1021— 1022см-3, а при таких высоких
концентрациях модель дискретных энергетических уровней, оче видно, не отвечает действительности. Более реалистичное объ яснение очень слабой частотной зависимости г" и tg 6 в АОП,
так же как и для многих массивных диэлектриков [188, 189], мо жет быть дано на основе механизма типа дебаевской поляриза ции, включающего прыжковую ионную проводимость.
Согласно этой модели, ион (рассмотрение справедливо и в случае электрона), первоначально находящийся в равновес ном связанном состоянии в положении А, в котором он не имел
электрического момента, с определенной энергией активации UP может перейти в свободный узел В, находящийся, например, на расстоянии а от исходной точки. Пусть в новом положении иона возникает дипольный момент Wa. При тепловом равновесии при
наличии электрического поля Е потенциалы VA и будут от личаться на величину еаЕ и поэтому вероятности заселенности
узлов Л и 5 будут различными, т. е. распределение ионов по равновесным и неравновесным узлам изменится. В результате появится дипольный момент. Время дипольной переориентации т связано с энергией активации W соотношением т = xoewlhT, где
то — константа, равная |
обратной частоте прыжков ионов. В слу |
|
чае единственной энергии активации W для е' и г" получаются |
||
дебаевские соотношения: |
|
|
в' = |
его + (es — e j /( l |
+ со2т2), |
б" = |
(е* — ете) ют/( 1 + |
©V), |
где Bs и еет — значения диэлектрической проницаемости при ну левой и бесконечно большой частотах соответственно. В действи тельности реализуется случай, когда имеется не один узел с од ной энергией активации, а набор узлов с распределением вре мен релаксации Дт) или энергией активации G(W). Уровни
энергии или заполнения узлов выбираются такими, чтобы по лучить распределение вида Дт)йт = ( 1/т)dx, позволяющее опи
сать независимость е" от частоты. Модель с таким распределе нием времен релаксации была предложена Гартоном [189]. Со гласно этой модели, ионы совершают переходы между «узлами
решетки» с фиксированной энергетической |
глубиной и узлами |
с различной глубиной W с частотой, |
пропорциональной |
ехр(—W/kT). Жевер и Дюпре [188] пришли к такому же резуль
тату, предположив, что в аморфном материале имеется очень «плоское» распределение диэлектрической восприимчивости и энергий активации. Очевидно, что температурная зависимость диэлектрических потерь будет определяться характером измене ния механизма ионного переноса при изменениях температуры.