Материал: Физика тонких пленок. Современное состояние исследований и технические применения. Т. 6

ФИЗИКА ТОНКИХ ПЛЕНОК

Современное состояние исследований

и

технические применения

Под общей редакцией

М. X. ФРАНКОМБА и Р. У. ГОФМАНА

Том

VI

Перевод с английского

Под редакцией

д-ра физ.-uax. наук В. Б, САИДОМИРСКОГО

ИЗДАТЕЛЬСТВО «МИР» МОСКВА 1973

PHYSICS OF THIN FILMS

Advances in Research

and

Development

Guest Editors

MAURICE H. FRANCOMBE

Research and Development Center W estinghouse Electric Corporation Pitsburgh, Pennsylvania

and

RICHARD W. HOFFMAN

Department of Physics

Case Western Reserve University

Cleveland, Ohio

VOLUME

vi

1971

ACADEMIC PRESS

New York and London

Описаны наиболее современные методы получения анодиро­ ванных пленок, их физические и физико-химические свойства (при этом особое внимание уделено изоляционным характеристикам), рассмотрены классические и квантовые размерные эффекты в ме­ таллических и полуметаллических пленках и нитях, изложена ма­ тематическая теория оптических свойств тонких и ультратонких металлических пленок, в частности анизотропных пленок; даны детальные обзоры многослойных структур из магнитносвязаниых ферро- и антиферромагнитных металлических пленок и физиче­ ских основ процессов диффузии в металлических пленках.

Книга представляет большой интерес для специалистов, ра­ ботающих в области физики тонких пленок и их приложений; она может служить также весьма ценным пособием для лиц, начинаю­ щих свою деятельность в соответствующих областях.

Редакция литературы по новой технике

Инд. 3-3-14 158-73

Очередной шестой том серии «Физика тонких пленок» со­ держит пять критических обзоров, касающихся самых различ­ ных аспектов тонкопленочных исследований; основное место от­

в традиционных направлениях тонкопленочных исследований значительное внимание уделяется относительно менее изучен­ ным проблемам, причем современное состояние исследований этих вопросов достигло стадии, на которой представляется це­ лесообразным их обзорный анализ.

Настоящий выпуск открывается статьей С. Дж. Дель’Ока, Д. Л. Пулфри и Л. Янга «Анодные окисные пленки», в которой обсуждаются успехи, достигнутые в этой области с момента опубликования хорошо известной монографии Л. Янга под та­ ким же названием. Особый интерес представляет обсуждение последних работ по газовому и плазменному анодированию, отличающихся дискуссионным характером, а также анализ про­ цессов поляризации, проводимости и электрического пробоя анодных пленок.

Современное состояние исследований размерных эффектов электропроводности тонких металлических пленок рассматри­ вается в обзоре Д. К- Ларсона, касающегося как классического, так и квантового размерных эффектов, а также недавних иссле­ дований анизотропии эпитаксильных металлических пленок.

В следующем обзоре, принадлежащем Ф. А. Абелесу, трак­ туются оптические свойства пленок металлов (главным образом в теоретическом аспекте).

Две последние главы посвящены соответственно взаимодей­ ствиям в многослойных магнитных пленках (А. Йелон) и диф­ фузии в пленках металлов (К. Уивер). В первой из них обсуждаются некоторые новые аспекты обменного взаимодейст­ вия, его влияние на перемагничивание и использование в устрой­ ствах магнитной памяти; во второй анализируются последние работы по диффузии, представляющие наибольший интерес для лиц, интересующихся процессами старения биметаллических

пленочных систем.

Af. Франкомй Р. Гофман

Февраль 1971 г.

АНОДНЫЕ ОКИСНЫЕ ПЛЕНКИ

С. Дж . Д ель’Ока, Д . Л. Пулфри, Л. Янг

I. ВВЕДЕНИЕ

Термином «анодные окисные пленки»1) принято называть окисные слои, образующиеся при приложении напряжения ме­ жду анодом и катодом, погруженными в раствор электролита (фиг. 1). В качестве электролита могут использоваться водные

Фи г. 1. Схема анодирования.

иневодные растворы или расплавы солей, кислородная плазма

или даже некоторые ионные проводники — твердые электро­ литы. В основе процесса анодного окисления лежит механизм переноса ионов металла или кислорода через растущий окисный слой под действием электрического поля, возникающего в пленке при приложении напряжения. Сравнительно больших скоростей роста окисных пленок можно достичь и в неионизированном газе, если на окисный слой наложить электрическое поле, подав напряжение между подложкой и нанесенным на внешнюю по­ верхность окисла пористым металлическим электродом [1]. Рост пленок может происходить также за счет кислорода, растворен­ ного в металлическом электроде [2]. Однако процессы роста в каждом из этих случаев протекают по-разному. Хорошо изве­ стно, что при определенных условиях АОП можно вырастить на большинстве металлов, полупроводниках IV группы и полупро­ водниковых соединениях AlnBv. Среди многочисленных приме­ нений АОП наиболее важное значение начинает приобретать их использование в электронных устройствах.

') В дальнейшем изложении наряду с этим термином будет применяться сокращенное обозначение АОП. — Прим, перво.