Материал: Физика тонких пленок. Современное состояние исследований и технические применения. Т. 6

Внимание! Если размещение файла нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам

АОП. Не менее существенно и присутствие влаги в пленках. Поскольку токи проводимости и при низком содержании влаги сильно зависят от времени, возможно, что при этом проявляется какой-то электронный механизм пробоя, зависящий от наличия или отсутствия влаги, обусловливающей появление определен­ ных типов ловушек в проводящем окисле [226].

Выше (разд. V, 3) отмечалось, что в аморфных телах при­ меси, по-видимому, не оказывают столь сильного влияния на электропроводность в слабых полях, как в диэлектриках с бо­ лее регулярной структурой. Однако при электрическом пробое к образцу приложены большие электрические поля, и в этих ус­ ловиях роль примесей может возрастать. Так, Вилсон и сотр. [227] наблюдали уменьшение пробивной прочности АОП на Со, Сг и W при загрязнении пленок ионами, проникающими из электролита. Примеси, проникающие в окисел из металлической подложки, по-видимому, оказывают такое же действие. Действи­ тельно, присутствие в ниобии примесей Zr, Ti, W, Мо и V сни­ жало пробивное напряжение окисла, выращенного на этом ме­ талле [223].-

Влияние примесей качественно легко объяснить в терминах зонной модели твердого тела. Если эта модель применима к аморфному материалу, то естественно полагать, что примесные атомы создают дополнительные электронные ловушки, более мелкие, чем те, которые обычно имеются в твердом теле. В сильных полях электроны, захваченные этими ловушками, относительно легко освобождаются. Таким путем возникают сво­ бодные носители, инициирующие пробой. Подобный эффект дол­ жен уменьшать электрическую прочность загрязненного окисла по сравнению с «истинной» величиной, характерной для чистого материала. Этот вывод согласуется с приведенными выше дан­ ными. Детальное исследование влияния примесей из металли­ ческой подложки на пробой АОП тантала проведено в работе [165]. При увеличении концентрации примесей до 1% катодное пробивное напряжение (минус на Та) не изменялось, а анодное пробивное напряжение увеличивалось. При более высоких кон­ центрациях пробивная прочность при обеих полярностях напря­ жения падала.

До сих пор считалось, что электрический пробой АОП свя­ зан с электронными процессами. Платонов [228—230] предполо­ жил, что таким процессом может быть, в частности, лавинный пробой. Им было показано, что в пленках ТагОб и Zn02 толщи­ ной от 100 до 5000 А электрическая прочность уменьшается

с ростом толщины. Однако не все АОП ведут себя подобным образом; например, электрическая прочность InSb, анодирован­ ного в КОН, не зависит от толщины и составляет ~ 106 В/см

[231]. Наблюдавшееся Платоновым [229] линейное увеличение

времени запаздывания пробоя с возрастанием толщины окисла непосредственно не согласуется с механизмом лавинного про­ боя. (Время запаздывания отсчитывалось от момента приложе­ ния напряжения пробивной величины.) Для объяснения этого очевидного несоответствия Платонов предположил, что ловушки в окисле захватывают электроны и возникающий отрицатель­ ный объемный заряд искажает электрическое поле в прикатодиой области. В результате электроны, инжектируемые из катода посредством полевого механизма, захватываются ловушками, чем сдерживается «разрушительная сила» электронной лавины. В этих условиях пробою может предшествовать несколько сла­ бых лавин, обусловливающих заполнение электронных ловушек

итаким образом «подготавливающих» путь для пробоя окисла.

Всвязи с этим можно полагать, что время запаздывания пробоя tr состоит из двух компонент — времени t\ заполнения ловушек и времени t2 образования разрушительной лавины. Очевидно, что t2 много меньше t\ и, следовательно, скорость

процесса лимитируется временем заполнения ловушек. Это при­ водит к наблюдаемому увеличению tr с ростом толщины. Если

предпробойные лавины действительно реализуются, то должны наблюдаться «шумы» предпробивного тока, подобные обнару­ женным Ван Гиппелем и сотр. [232] в массивных щелочно-гало­ идных кристаллах. Платонов сообщил также, что пробой пле­ нок ТагОб и AI2O3 на импульсах напряжения со скоростью нарастания 5-107 В/с опережает пробой на импульсах, нарастаю­

щих с меньшей скоростью (15 В/с), на 20—30%. Этот результат можно объяснить в рамках обсуждавшейся выше гипотезы, если предположить, что, прежде чем ловушки заполняются, быстро нарастающее напряжение превысит минимум, необходимый для возникновения пробоя. Согласно Платонову, ловушки увеличи­ вают пробивную прочность окисла, что противоречит ранее об­ суждавшимся результатам.

г.Обсуждение. Экспериментальные данные о скорости спада напряжения при пробое АОП отсутствуют. Однако скорее всего этот эффект аналогичен наблюдающемуся в массивных диэле­ ктриках [233] и в ряде тонких пленок [214]. Спад напряжения можно интерпретировать как результат электрического разряда через тонкий межэлектродный канал, сопротивление которого резко уменьшается при переходе от стадии ионизации к стадии образования высокопроводящей плазмы. Отсюда следует, что электрический пробой включает две стадии: 1) образование про­ водящего канала в диэлектрике и 2) разряд энергии, запасен­

ной в образце, через этот канал, приводящий к разрушению материала. Последний процесс легко объяснить в терминах на­ грева и испарения диэлектрика, но основную трудность в

описании процесса пробоя представляет идентификация и

интерпретация процесса формирования проводящего канала. Имеющиеся к настоящему времени данные указывают на то, что в случае АОП этот процесс обусловлен образованием электрон­ ных лавин, причем существенное влияние на его протекание оказывают макродефекты и примеси, имеющиеся в окисле. Без сомнения, наличие этих неоднородностей вызывает наблюдае­ мый разброс значений напряжения пробоя. Тем не менее отсут­ ствие строго определенного пробивного напряжения не позво­ ляет применить к АОП теоретические модели, развитые для объяснения явления пробоя в других диэлектриках [214, 234]4).

Наибольшим успехом в интерпретации явлений пробоя для многих диэлектриков различной толщины пользуется теория однолавинного электронного пробоя [235], предсказывающая зависимость пробивной прочности от толщины и временное за­ паздывание пробоя, наблюдавшиеся экспериментально. Однако в настоящее время наиболее реалистичными следует считать теории, не ограничивающиеся учетом лишь одной ударной иони­ зации в диэлектрике, но учитывающие и туннельную эмиссию из катода [234, 236]. Считается, что нарастающая лавина остав­ ляет за собой положительный пространственный заряд, в част­ ности, у катода, обусловленный ионизацией точечных дефектов решетки [236] или генерацией подвижных дырок [234]. Это при­ водит к усилению туннельной эмиссии с катода и вследствие ус­ ловия непрерывности тока к развитию лавины, разрушающей о'бразец. Очевидно, что в АОП электроны могут инжектиро­ ваться посредством эмиссии типа Шоттки. При этом обычно предполагается, что дырки не обладают подвижностью и, сле­ довательно, увеличение поля в прикатодной области можно объ­ яснить только электронной ударной ионизацией, например, ло­ кальных центров, или миграцией катионов [237]. Если эмиссия электронов в прикатодную область действительно является не­ обходимым условием пробоя, то, по мнению Клейна [214], гене­ рация свободных носителей в диэлектрике за счет внутренней фотоэмиссии с электродов должна сопровождаться уменьше­ нием пробивного напряжения. Как подчеркнул Гудман [210], ис­ следования внутренней фотоэлектронной эмиссии из электродов должны способствовать выяснению вопроса о подвижности ды­ рок в окисных пленках при пробивных напряжениях, в част­ ности вопроса о том, имеет ли подвижность дырок в этих усло­ виях конечные значения.*)

*) По вопросам пробоя диэлектриков см. также монографии: Воро­ бьев А. А., Воробьев Г. А., «Электрический пробой и разрушение твердых дивлектриков» («Высшая школа», М., 1966) и Франц В., «Пробой диэлектриков» (ИЛ, М., 1961). — Прим. ред.

 

 

ЛИТЕРАТУРА

 

 

 

 

1.

J о г g е n s е n Р. S., 7. Chem. Phys., 37, 874 (1962).

 

 

(1969).

2.

M i l e s

J. L., New York Meet., Electrochem. Soc.t 1969, Abstr. № 26

3.

Y o u n g

L., Anodic Oxide Films, Acad. Press, New York,

1961; русский пе­

4.

ревод: 10 и г Л., Анодные оксидные

пленки,

«Энергия»,

Л., 1967.

 

G о г u k W. S., Y o u n g L., Z о b е 1

F. G. R.,

в книге: Modern

Aspects of

 

Electrochemistry, ed. Bockris J. O’M., Vol. 4, Plenum

Press,

New

York,

5.

1966, p.

176.

 

 

 

 

 

Б а р д и н а H, Г., Успехи химии, 33, 602 (1964).

 

 

 

6.V e г m i 1у e a D. А., в книге: Advances in Electrochemistry, ed. Delahay P., Vol. 3, Wiley, Intersci., New York, 1963, p. 211; см. также Non-Crystalline Solids, ed. Freschette V. D., Wiley, New York, 1960, p. 328.

7. D i g g 1 e J. W., D о w n i e T. C., G о u 1d i n g C. W., Chem. Rev. (1970).

8.New York Meet., Electrochem. Soc., 1969, Extended abstr. bookl. (1969).

9.Dallas Meet., Electrochem. Soc., Extended abstr. bookl., vol. 6, № 1 (1967); см. также Electrolytic Rectification, eds. Schmidt P. F., Smyth D. M., Elec­

10.

trochem. Soc., New York, 1967.

 

 

(1957).

 

 

 

 

 

Y ou n g

L., Trans. Farad. Soc., 53, 841

 

 

 

 

 

11.

F r o m h o l d

A.

T., C o o k E.

L., 7.

Appl.

Phys.,

38,

1546

(1967);

Phys.

12.

Rev., 175, 877 (1968).

 

 

 

 

 

 

(1968).

 

 

 

D i g n a m M. J., J. Phys. Chem. Solids, 29, 249

 

 

 

13.

D u n n

C. G., 7.

Electrochem. Soc., 115,

219

(1968);

Y o u n g

L., Acta

Met.,

14.

5, 711 (1957).

 

 

i l y e a

D. A.,

7.

Electrochem. Soc., 114, 882 (1967);

B u b a г S. F„ V e r m

15.

113, 892

 

(1966).

B r a n d o n

D.

G.,

Proc.

Int.

Symp.

Thin

Films,

1969,

A l a d j e m

A.,

16.

/. Vac. Sci. Tech., 6, 635 (1969).

Can. J. Chem.,

44,

641

(1966).

 

H a r k n e s s

A. C., Y o u n g

L.,

Van

17.

B e r r y

R. W.,

H a l l

P. M.,

H a r r i s

M. T., Thin

Film Technology,

18.

Nostrand, Princeton, New Jersey, 1968.

 

 

 

 

 

 

 

P a 11 e r s о n W. E., W h i t e C. L., Thin Films Formed by Electrochem. Reac­

19.

tions, Tex. Inst. Co., Rep. 03-63-27, 1963, CM. Chem. Abstr., 66, 120004 (1967).

M i l l s

D.,

Y o u n g L., Z o b e l

F. G. R., 7. Appl. Phys.,

37, 1821 (1966).

20.

K l e r e r

J. 7. Electrochem. Soc.,

112, 869 (1965).

 

1969, Extended abstr.,

21.

S i l a r i k

 

J.,

New York Meet.,

Electrochem. Soc.,

27 (1969).

22.M u t h D. G., 7. Vac. Sci. Tech., 6, 749 (1969).

23.

V e r m i I у e a D. A., Acta Met., 1, 282

 

(1953).

(1958).

 

 

 

 

 

24.

Y o u n g

L., Proc. Roy. Soc., London,

A244, 41

 

Soc.,

Ill,

1167

25.

S c h r i j n e r

A.

J., M i d d e l h o c k

 

A.,

7.

Electrochem.

26.

(1964).

 

A., Z a i n i n g e r

К. H., Appl.

Phys. Lett., 12,

109

(1968).

 

W a x m a n

 

27.

V e r m i l y e a D. A., Acta Met., 2, 482

 

(1954).

 

 

 

 

 

 

28.

R a n d a 11 J. J., В e r n a г d W. J., W i 1k i n s о n R. R., Electrochem. Acta,

29.

10, 183 (1965).

Electrochim.

Acta,

8, 847

(1963);

Acta

Met., 11,

1061

D r a p e r

 

P.

H.,

30.

(1963).

G.,

C h e r k i C., F e i 11 a d e

G„

N a d a i J.

P.,

7.

Phys. Chem.

A m s e 1

31.

Solids (1970).

 

 

 

(1954).

 

 

 

 

 

 

Y o u n g

L., Trans. Farad. Soc., 50, 153

 

 

 

 

 

 

32.

V e r m i l y e a

D. A., 7. Phys. Chem. Solids, 26, 133 (1965).

 

 

 

 

3 3 . S e h m i d t

P. F.,

Symposium on Electrolytic Specification

and

Conduction

Mechanisms in Anodic Axide Films, Electrochem. Soc., New York,

1967, p. 1.

34.Л у к о в ц е в П . Д., Электрохимия, 4, 379 (1968).

35.Y o u n g L., Proc. Roy. Soc., London, A258, 496 (1960).

36. M a s i n g L., Vi t i n s J., Y o u n g L., Dielectrics, 1, 45 (1963).

37. V e r m

i 1ye a D. A., J. Electrochem. Soc.,

104,

140

(1957)

 

 

 

 

 

 

 

38.

D e l Г O ca

C. J.,

Y o u n g

L., 7. Electrochem. Soc.,

117,

1548

(1970).

 

39.

V e r m i 1 у e a D. A., J. Electrochem. Soc.,

104, 427

(1957).

 

 

 

 

 

 

 

40.

Y o u n g

L., Proc. Roy. Soc.,

London, A263, 395

(1961).

 

 

 

 

 

 

 

 

41.

D e w a 1 d J. F., неопубликованные данные.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

42.

Y o u n g

L., /. Electrochem. Soc., 111,

1289

(1964).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

43.

Y o u n g

L., Acta Met., 4,

101

(1956).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

44.

Е г о р о в

В. В.,

Л у к о в ц е в

П. Д.,

Электрохимия, 3,

1071

(1967).

 

45.

D е w а 1 d J. F., 7.

Pkys. Chem. Solids, 2, 55

(1957).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

46.

Y o u n g

L.,

Z o b e l

F. G. R.,

7. Electrochem. Soc., 113, 277

(1966).

 

47.

Gu n t e r s c h u l t z e

A.,

B e t z

G.,

Electrolytkondensatoren,

Krayn,

Berlin,

 

1937.

 

 

 

R., /. Electrochem. Soc.,

Ill,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

48.

D r e i n e r

1350 (1964).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

49.

D y g n a m

M.

J.,

 

G o a d

D.,

7.

Electrochem. Soc.,

113,

381

(1966).

 

 

50.

V e r m i l y e a

D. A., /. Electrochem. Soc.,

 

102, 207

(1955);

104, 542

(1957).

51.

V e r m i l y e a

D. A., /. Electrochem. Soc., 104, 485 (1957).

 

 

 

 

 

 

52.

H a r v e y J . , W i l m a n H . ,

Acta Cryst.,

14,

1278 (1961).

 

 

 

 

 

 

 

53.

C a l v e r t

L. D.,

D r a p e r

P. H.,

Can. J. Chem., 40, 1943

(1962);

сравни;

 

L eh

о v e c

К., /. Less-Common M etals, 7, 397

(1964).

 

 

 

 

 

 

 

 

54.

P a w e l

R.

E.,

C a m p b e l l

J. J.,

7.

Electrochem. Soc., Ill,

1230

 

(1964).

55.

S p у г i d e 1 i s

J.,

D e l a v i g n e t t e

 

P.,

A m e l i n c k x

S.,

Phys.

Status

 

Solidi, 19, 683 (1967).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Mater.

Res.

56.

S p y r i

d e l i s

J.,

D e l a

v i g n e t t e

 

P.,

A m e l i n c k x

S.,

57.

Bull.,

3, 31

(1968);

2

(1967).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

D e l T O c a

C. J., Y o u n g L., неопубликованные данные.

23, 337

(1967).

58.

Обзор

современных

работ см. H a r t l

М., Z. Angew. Phys.,

59.

V e n a b l e s

J. D.,

B r o u d y

R. M.,

/. Appl. Phys.,

30,

1110

(1959).

 

60.

V e n a b l e s

J. D.,

B r o u d y

R. M.,

Electrochem. Soc., 107,

296

(1960).

61.

В г a g

A. R.,

J a c o b s

P. M. W.,

 

Y о u n g

L.,

 

7.

Nucl. Mater.,

4,

356

 

(1959).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Z. Phys., 92, 367 (1934).

 

 

 

 

 

 

62.

G i i n t e r s c h u l t z e A . ,

B

e t z H

 

 

 

 

 

 

63.

D i g n a

m M. J.,

New

York

Meet.,

Electrochem. Soc., 1969, Extended

abstr.,

 

Ко 10

(1969).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

64.

V e г w e у E. J. W., Physica

(Utrecht), 2,

1059 (1935).

 

 

 

 

 

 

 

 

65.

M o t t

N. F.,

Trans. Farad. Soc., 43, 429

(1947).

 

163

(1948— 1949).

 

66.

C a b r e r a

N.,

M o t t

N. F.,

Rep.

Prog.

Phys., 12,

 

67.

D e w a 1 d J. F., 7.

Electrochem. Soc.,

102,

1

(1955).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

68.

Y o u n g

L., Can. J. Chem., 37, 276

(1959).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

69.

Y o u n g

L.,

Trans. Farad. Soc.,

52,

502, 515

(1956).

 

Phys.

Rev.,

 

 

 

70.

B e a n

С.

P.,

F i s h e r

J.

C,

V e r m i l y e a

D.

A.,

101,

551

 

(1956).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

71.

D i £ n a m M. J., 7. Electrochem. Soc.,

 

112, 722

(1965).

 

 

 

 

 

 

 

 

72.

D e l l ’ Oc a

C. J.,

Y o u n g

L., Appl. Phys. Lett., 13,

228

(1968).

 

 

 

 

73.

D i g n a m M.

J.. R y a n

P. J.,

Can. J. Chem., 46, 549

(1968).

 

 

 

 

 

74.

V e r m i l y e a

D. A., J. Electrochem. Soc.,

 

102,655

 

(1955).

 

 

 

 

75.

V e г m i

1у e a

D. A., 7. Electrochem. Soc.,

 

104,427

 

(1957).

 

 

 

 

76.

V a n

W i n k e

1

P.,

P i s t о r i u s

C.

 

A., V a n

G

e e 1 W. C.,

Philips

Res.

 

Rep., 13, 277 (1958).

 

 

 

 

 

 

M., Can. J. Chem., 43,

 

 

 

 

 

 

77.

D i g n a m

M. J.,

 

G o a d

D.,

S o l e

800

(1965).

 

78.

D i g n a m

M.

J.,

G o a d

D.,

J. Electrochem.

Soc.,

113,

381

(1966).

1969,

79.

D r e i n e r

R.,

T r i p p

T.

B.f

New

 

York

Meet.,

Electrochem.

Soc.,

 

Extended abstr., Mb 21

(1969).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

80.

Y o u n g

L., J. Electrochem. Soc., 110, 589

(1963).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

81.

D i g n a m

M. J.,

Can. J. Chem., 42,

1155 (1964).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

82.

H о 1 d e n

B. J.,

U 11m a n

F. G.,

J. Electrochem. Soc.,

116, 280

(1969).

83.

F r o v a

A.,

M i g l i o r a t o

 

P.,

Appl.

Phys. Left.,

13,

328

(1968).

 

(1969).

84. C h r i s t o v

S. G.,

I k o n o p i s o v

S., J. Electrochem.

Soc.,

116,

56

Источник: https://studfile.net/preview/19992809/

Смотрите также: