тор находится под воздействием мощного пучка электронов и в связи с этим изнашивается и выходит из строя.
Другой существенный недостаток, присущий всем рассмотрен ным способам, заключается в том, что, в силу определенных геометри ческих размеров датчиков, контроль диаметра пучка осуществляется на некотором расстоянии от обрабатываемой детали, что не позволяет совместить операцию контроля диаметра с операцией фокусировки, хотя такое совмещение требуется для оперативного контроля сварочно го процесса. В настоящее время эти устройства используются или в исследовательских целях, или для диагностирования состояния элек тронно-лучевой пушки, а фокусирование пучка выливается в самостоя тельную операцию, при этом диаметр технологического электронного пучка в зоне обработки не контролируется.
Этих недостатков лишен описанный в настоящей работе способ контроля геометрии электронного пучка по рентгеновскому излучению зоны обработки, позволяющий не только контролировать, но и регули ровать диаметр технологического электронного пучка непосредственно в процессе обработки.
Рассмотрим способы фокусирования электронного пучка. Обыч но под фокусированием понимается совмещение минимального диа метра пучка с поверхностью обрабатываемого изделия путем измене ния тока фокусирующей линзы. Такая фокусировка обычно осуществ ляется в режиме малого тока, а при выходе в режим технологического тока производится дофокусировка изменением тока фокусирующей линзы на определенную величину, определенную технологическим процессом сварки.
Для фокусировки пучка могут быть использованы различные технологические приемы и оборудование. Часто используются системы наблюдения. Оператор, визуально контролируя размеры светящегося пятна на поверхности изделия, изменением тока фокусирующей линзы добивается его минимальных размеров. Такой способ субъективен и не обладает необходимой точностью.
Более точную фокусировку пучка можно осуществить с исполь зованием аппаратуры, предназначенной для наведения электронного пучка на стык. Если наблюдать сигнал вторично-эмиссионного датчика стыка, то можно заметить, что его амплитуда зависит от диаметра элек тронного пучка. Фокусировку электронного пучка можно осуществ лять, добиваясь максимальной амплитуды вторично-эмиссионных им пульсов от стыка.
Известно, что острая фокусировка электронного пучка приводит к максимальной глубине проплавления, при этом имеют место колеба
ния канала проплавления, максимальное испарение и колебания паро газового облака над сварочной ванной. В работах [51; 52] предлагается осуществлять контроль фокусировки электронного пучка по частоте пульсаций ионного тока, снимаемого с зонда, установленного вблизи зоны обработки.
Использовать пульсации тока вторичной эмиссии на частотах 3...25 кГц для фокусировки электронного пучка предлагается в работе [63]. При максимальной амплитуде переменной составляющей дости гается максимальная глубина проплавления.
В работе [36] контроль фокусировки предлагается осуществить по минимуму тока вторичной эмиссии, снимаемому с датчика вторич ных электронов, находящегося под отрицательным потенциалом.
Недостаток всех существующих методов фокусировки состоит в том, что добиваться максимальной глубины проплавления не целесооб разно, поскольку необходимо добиваться оптимального качества свар ного соединения. Максимальная глубина проплавления обычно связана с наличием корневых дефектов. Поэтому более правильно получить определенное значение диаметра пучка, при котором достигается хо рошее качество сварного соединения.
1.3.3. Системы контроля и стабилизации глубины проплавления
Задача контроля и стабилизации глубины проплавления актуаль на для получения необходимого качества сварных соединений. В на стоящее время она удовлетворительно решается лишь для случаев сквозного проплавления. В этом случае под сварочным швом устанав ливается изолированный от свариваемого изделия коллектор. При сквозном проплавлении часть электронов достигает коллектора, и за дача системы стабилизации глубины проплавления сводится к задаче поддержания некоторого тока коллектора, который имеет пульсирую щий характер.
При сварке без сквозного проплавления определенная глубина проплавления достигается за счет поддержания основных параметров сварочного процесса на определенном уровне. Обычно эти параметры получают в результате экспериментальных исследований. Естественно, что отклонение этих параметров в силу различных причин приводит к ошибке по глубине проплавления. Для оценки влияния технологиче ских параметров, таких как ускоряющее напряжение, ток пучка, ско рость сварки, расстояние до пушки, ток фокусировки, строится уравне ние регрессии, связывающее глубину проплавления с вариациями ука-
занных параметров [78]. Такое уравнение позволяет установить допус ки на изменение параметров процесса при требуемой точности под держания глубины проплавления.
Отдельные авторы предлагают осуществлять контроль глубины проплавления по пульсациям тока вторичной эмиссии.
Вработах [132; 136] измеряют и выделяют переменную состав ляющую тока вторичной эмиссии с частотой более 200 Гц и по ее ам плитуде судят о глубине проникновения пучка. В качестве датчика электронов используют цилиндр Фарадея, ориентированный на зону сварки.
Предлагается выполнять контроль глубины несквозного про плавления по температуре с обратной стороны шва [133]. Для этого осуществляют модуляцию тока, и по модуляции температуры, изме ряемой фотоэлементом, судят о глубине проплавления. Аналогичное решение, только без модуляции тока, предлагается в работе [18].
Для контроля глубины проплавления используют рентгеновское излучение сварочной ванны [47; 145]. В работе [145] с помощью каме ры-обскуры и рентгеновского видикона предлагается получать изобра жение канала проплавления при ЭЛС и измерять его геометрические характеристики, в том числе и глубину проплавления. Однако даль нейшего развития этот способ не получил.
Вработе [29] предлагается использовать коллимированный дат чик рентгеновского излучения для контроля и стабилизации глубины проплавления. Этот датчик ориентируют на дно канала проплавления под определенным углом к оси пучка. Недостаток способа заключается
втом, что контролировать большую глубину проплавления не удается из-за значительного ослабления рентгеновского излучения материалом свариваемого изделия. При малом уровне сигнала начинает сказывать ся фоновое рентгеновское излучение.
Выводы
1. Анализ существующих устройств и систем автоматическо управления процессом электронно-лучевой сварки показывает, что их развитие идет как по пути создания отдельных систем слежения по стыку, контроля геометрических параметров электронного пучка и фокусировки, систем управления глубиной проплавления, так и по пути объединения указанных систем в вычислительные комплексы с реше нием задач контроля и регистрации параметров процесса, оперативного управления им, решения вопросов оптимизации качества.
2.Наиболее перспективными являются системы слежения по стыку с вторично-эмиссионными и рентгеновскими датчиками. Суще ствующие системы не обладают требуемой помехоустойчивостью и надежностью. Поэтому основной задачей является повышение помехо устойчивости и надежности функционирования систем за счет исполь зования специальных технических решений и обработки информации.
3.Важной энергетической характеристикой электронного пучка является его эффективный диаметр, поэтому актуальна задача контроля
иуправления диаметром электронного пучка непосредственно в про цессе электронно-лучевой сварки, обработки.
4.Существующие системы стабилизации глубины проплавления при ЭЛС эффективны лишь в случае сквозного проплавления, поэтому необходимо разработать новые принципы построения систем стабили зации глубины при несквозном проплавлении.
5.Выбор параметров и режимов электронно-лучевой сварки осуществляется путем экспериментальных исследований. Для того чтобы получать параметры процесса, близкие к оптимальным, прихо дится проводить большое количество пробных сварок. Задача значи тельного повышения производительности экспериментальных работ и оптимизации процесса ЭЛС может быть решена путем создания авто матизированного комплекса по оптимизации ее технологии.
Решению поставленных задач посвящена настоящая моногра
фия.
Глава 2
МЕТОД СИНХРОННОГО ДЕТЕКТИРОВАНИЯ ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ИНФОРМАЦИИ О ПОЛОЖЕНИИ СТЫКА И ПЛОСКОСТИ ФОКУСИРОВКИ
Повышение помехозащищенности измерительных устройств по ложения стыка может быть достигнуто с использованием частотно селективного метода для выделения информации. Применение частот но-селективных методов предполагает наличие в сигнале датчика гар монических составляющих, несущих требуемую информацию о поло жении стыка и фокусировке электронного пучка.
2.1. Математическая модель вторично-эмиссионного датчика положения стыка
Рассмотрим математическую модель вторично-эмиссионного дат чика (ДВЭ) положения стыка. Датчик положения стыка - коллектор вторичных электронов (КВЭ) - в простейшем случае представляет собой металлическое кольцо с центральным отверстием, установленное на торце электронно-лучевой пушки на изоляторах (рис. 2.1).
При взаимодействии пучка электронов с поверхностью свариваемо го изделия часть из них отражается, и вторичные, отраженные электроны попадают на коллектор вторичных электронов, что приводит к току через нагрузочный резистор RK.Ток вторичной эмиссии определяется первичным током пучка электронов, коэффициентами вторичной эмиссии свариваемо го изделия и геометрическими характеристиками ДВЭ, определяемыми углами cti и а 2.
При попадании пучка электронов на различные неоднородности поверхности (зазор в стыке, бурт, разделка кромок, разнородные мате риалы и т. д.) происходит изменение вторично-эмиссионного тока. В случае пересечения пучком электронов зазора в стыке происходит уменьшение вторично-эмиссионного тока, причем положение миниму ма соответствует совмещению центра пучка с серединой зазора в сты ке. На этом принципе работают вторично-эмиссионные датчики поло жения стыка.
Ток коллектора вторичных электронов можно представить вы ражением [83; 99]
00 |
СО |
|
Ас = А. \ |
\ ф(*>у ) к 0> y)dxdy, |
(2.1) |
-00 -00 |
|
|