Материал: sb000008

Внимание! Если размещение файла нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам

20

мещение доменов, вызванное ОДП, делает ДГ эффективными приборами СВЧ-диапазона.

Одним из важнейших физических механизмов возникновения объёмного отрицательного дифференциального удельного сопротивления служит эффект междолинного перехода электрона, например в арсениде галлия. Случайная флюктуация концентрации свободных носителей в любой точке образца с объёмным отрицательным удельным сопротивлением приводит к моментальному возникновению пространственного заряда, значение которого растет по экспоненциальному закону.

В одномерном приближении уравнение непрерывности для электронов имеет вид

n 1 Jn = 0.

t q x

Малое локальное отклонение концентрации основных носителей от од-

нородной равновесной концентрации n0 приводит к появлению пространст-

венного заряда плотностью n n0. Уравнение Пуассона тогда принимает вид

E =

q

(n n ),

(5.1)

 

x

εs

 

 

0

 

где εs – диэлектрическая проницаемость, а выражение для плотности тока

J= E qD n ,

ρx

где ρ – удельное сопротивление; D – коэффициент диффузии. Продифферен-

цировав выражение для плотности тока по x и учитывая уравнение Пуассона, получим

 

1 J

 

n n

2n

 

 

 

 

 

 

=

0

D x2 .

 

 

q

x

ρεs

 

Подстановка этого выражения в уравнение непрерывности, приводит к

уравнению

 

 

 

 

 

n

n n

2n

 

t +

 

0

D x2 = 0

,

 

ρεs

которое можно решить методом разделения переменных. Если концентрация зависит только от координаты x, то решение можно представить в виде

n(x) = n0exLD ,

21

где n0 = n(0), а

LD = kTεs q2n0

– дебаевская длина, определяющая расстояние, на котором затухают малые флюктуации заряда. Если концентрация зависит только от времени, то реше-

ние уравнения имеет вид

n(t) = nt0 etτR ,

где nt0= n(t = 0), τR = ρεs = εs qμn ≈ εs qμn0 – время диэлектрической релаксации, за которое происходит рассасывание пространственного заряда, если дифференциальное удельное сопротивление и дифференциальная удельная подвижность положительны. Однако в полупроводнике с отрицательным дифференциальным сопротивлением любая флюктуация концентрации будет нарастать по экспоненциальному закону:

n(t) = nt0 et τR .

При этом максимальная концентрация будет определяться временем пролета слоя пространственного заряда через прибор

nmax = nt0 eLv τR .

Очевидно, что для существенного увеличения заряда необходимо вы-

полнение условия Lv τR > 1 или

n0L > εsvq μ.

Для арсенида галлия правая часть имеет порядок 1012 см–2 . Это означает, что границей, разделяющей режимы работы приборов на эффекте ОДП, является величина произведения концентрации носителей на длину прибора, равная n0L = 1012 см–2 .

Если произведение n0L > 1012 см–2 , то вблизи катодного контакта, где флюктуации концентрации примеси и объёмного заряда максимальны, происходит формирование доменов, которые затем движутся к аноду. Процесс формирования домена в приборе с S-образной характеристикой (рис. 5.1, а) происходит следующим образом. Если из-за неоднородностей легирования или случайных шумов в некоторой точке A вблизи катода образовался избыток отрицательного заряда (рис. 5.1, б), распределение электрического поля (рис. 5.1, в), полученное в результате интегрирования уравнения Пуассона,

22

таково, что поле слева от точки A меньше, чем справа. Но тогда в соответствии с графиком ВАХ получается, что ток, втекающий в область вблизи точки

A, больше тока, вытекающего из нее, что приводит к накоплению пространственного заряда и увеличению разности электрического поля слева и справа от точки A. Этот процесс продолжается до тех пор, пока значения поля слева и справа от точки A не станут равными, соответственно, E1 и E2 (рис. 5.1, а),

J

 

E1

 

 

EA EA'

E2

 

E

 

 

 

 

EA— EA+

a

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

+

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0

xA

б

L

x

E

 

 

 

 

 

 

 

EA+

EA

EA—

0xA

v

t1 t2

в

L

x

t3

 

 

 

t1<t2<t3

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0

xA

г

L

x

 

 

 

 

 

 

Рис. 5.1. Формирование домена в диоде Ганна

при которых J1 = J2. В результате образуется слой с повышенной концентрацией пространственного заряда, который движется вдоль образца под действием постоянного приложенного поля.

23

Скорость дрейфа электронов подчиняется статической зависимости, приведённой на рис. 5.2. Система уравнений, описывающих поведение элек-

v

vr

vrm

Erm Er

Ee EDOM

Em

E

Рис. 5.2. Зависимость скорости от напряженности электрического поля

тронов, состоит из уравнения Пуассона (5.1) и уравнения для плотности полного тока

J = qnv(E) q

D(E)n + ε

E .

(5.2)

 

x

s t

 

Вне домена концентрация носителей равна n0, а напряжённость поля –

Er. Тогда решение этого уравнения должно иметь вид домена, движущегося со скоростью vDOM без изменения формы, и может быть представлено в виде

E

EDOM

Er

n

L

 

Обогащенный

слой (n < n0)

n0

 

Обедненный

 

слой (n > n0)

x — vDOMt

L

функций, зависящих только от одной переменной x′ = x vdomt :

Рис. 5.3. Распределения электрического поля и концентрации электронов для стабильного домена.

24

Ток вне домена состоит только из тока проводимости и определяется выражением J = qn0vr (E). Поскольку

E =

E

и

E = −v

E

,

x

 

x

 

t

dom x

 

выражения (5.1) и (5.2) можно записать следующим образом:

E = q n

x′ εs

и

d [D(E)n] = n[v(E) vdom ] n0(vr vdom ). dx

При делении одного выражения на другое получается дифференциаль-

ное уравнение для [D(E)n] как функции электрического поля

q

 

d

[D(E)n] =

n[v(E) vdom ] n0(vr vdom )

.

εs

 

 

 

dE

 

n

Для решения этого уравнения с учётом полевой зависимости коэффициента диффузии применяются численные методы.

5.2. Программа работы и указания по ее выполнению

p, см– 3

109

108

107

106

105

104

103

102

0

2

4

6

8

10

12

14

 

 

 

 

x , мкм

 

 

 

Рис. 5.4. Распределение концентрации примеси в структуре диода Ганна

1.По заданию, выданному преподавателем, построить профиль легирования диода Ганна.

2.По заданной длине диода определить субкритический уровень легирования и рассчитать ВАХ. Определить суперкритическое легирование и

рассчитать ВАХ.

Источник: https://studfile.net/preview/16438900/