20
мещение доменов, вызванное ОДП, делает ДГ эффективными приборами СВЧ-диапазона.
Одним из важнейших физических механизмов возникновения объёмного отрицательного дифференциального удельного сопротивления служит эффект междолинного перехода электрона, например в арсениде галлия. Случайная флюктуация концентрации свободных носителей в любой точке образца с объёмным отрицательным удельным сопротивлением приводит к моментальному возникновению пространственного заряда, значение которого растет по экспоненциальному закону.
В одномерном приближении уравнение непрерывности для электронов имеет вид
∂n − 1 ∂Jn = 0.
∂t q ∂x
Малое локальное отклонение концентрации основных носителей от од-
нородной равновесной концентрации n0 приводит к появлению пространст-
венного заряда плотностью n – n0. Уравнение Пуассона тогда принимает вид
∂E = |
q |
(n − n ), |
(5.1) |
|
|||
∂x |
εs |
|
|
|
0 |
|
|
где εs – диэлектрическая проницаемость, а выражение для плотности тока
J= E − qD ∂n ,
ρ∂x
где ρ – удельное сопротивление; D – коэффициент диффузии. Продифферен-
цировав выражение для плотности тока по x и учитывая уравнение Пуассона, получим
|
1 ∂J |
|
n − n |
∂2n |
|
||||
|
|
|
|
|
= |
0 |
− D ∂x2 . |
|
|
|
q |
∂x |
ρεs |
|
|||||
Подстановка этого выражения в уравнение непрерывности, приводит к |
|||||||||
уравнению |
|
|
|
|
|
||||
∂n |
n − n |
∂2n |
|
||||||
∂t + |
|
0 |
− D ∂x2 = 0 |
, |
|||||
|
ρεs |
||||||||
которое можно решить методом разделения переменных. Если концентрация зависит только от координаты x, то решение можно представить в виде
n(x) = n0e−x
LD ,
21
где n0 = n(0), а
LD = kTεs q2n0
– дебаевская длина, определяющая расстояние, на котором затухают малые флюктуации заряда. Если концентрация зависит только от времени, то реше-
ние уравнения имеет вид
n(t) = nt0 e−t
τR ,
где nt0= n(t = 0), τR = ρεs = εs
qμn ≈ εs
qμn0 – время диэлектрической релаксации, за которое происходит рассасывание пространственного заряда, если дифференциальное удельное сопротивление и дифференциальная удельная подвижность положительны. Однако в полупроводнике с отрицательным дифференциальным сопротивлением любая флюктуация концентрации будет нарастать по экспоненциальному закону:
n(t) = nt0 et
τR .
При этом максимальная концентрация будет определяться временем пролета слоя пространственного заряда через прибор
nmax = nt0 eL
v τR .
Очевидно, что для существенного увеличения заряда необходимо вы-
полнение условия L
v τR > 1 или
n0L > εsv
q μ− .
Для арсенида галлия правая часть имеет порядок 1012 см–2 . Это означает, что границей, разделяющей режимы работы приборов на эффекте ОДП, является величина произведения концентрации носителей на длину прибора, равная n0L = 1012 см–2 .
Если произведение n0L > 1012 см–2 , то вблизи катодного контакта, где флюктуации концентрации примеси и объёмного заряда максимальны, происходит формирование доменов, которые затем движутся к аноду. Процесс формирования домена в приборе с S-образной характеристикой (рис. 5.1, а) происходит следующим образом. Если из-за неоднородностей легирования или случайных шумов в некоторой точке A вблизи катода образовался избыток отрицательного заряда (рис. 5.1, б), распределение электрического поля (рис. 5.1, в), полученное в результате интегрирования уравнения Пуассона,
22
таково, что поле слева от точки A меньше, чем справа. Но тогда в соответствии с графиком ВАХ получается, что ток, втекающий в область вблизи точки
A, больше тока, вытекающего из нее, что приводит к накоплению пространственного заряда и увеличению разности электрического поля слева и справа от точки A. Этот процесс продолжается до тех пор, пока значения поля слева и справа от точки A не станут равными, соответственно, E1 и E2 (рис. 5.1, а),
J
|
E1 |
|
|
EA EA' |
E2 |
|
E |
|
|
|
|
EA— EA+ |
a |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
– |
|
|
|
|
|
+ |
|
|
|
|
|
|
|||
|
|
|
|
|
|
|
|
n |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
0 |
xA |
б |
L |
x |
E |
|
|
|
|
|
|
|
|
EA+
EA
EA—
0xA
v
t1 t2
в |
L |
x |
t3
|
|
|
t1<t2<t3 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
0 |
xA |
г |
L |
x |
||
|
|
|
|
|
|
|
Рис. 5.1. Формирование домена в диоде Ганна
при которых J1 = J2. В результате образуется слой с повышенной концентрацией пространственного заряда, который движется вдоль образца под действием постоянного приложенного поля.
23
Скорость дрейфа электронов подчиняется статической зависимости, приведённой на рис. 5.2. Система уравнений, описывающих поведение элек-
v
vr
vrm
Erm Er |
Ee EDOM |
Em |
E |
Рис. 5.2. Зависимость скорости от напряженности электрического поля
тронов, состоит из уравнения Пуассона (5.1) и уравнения для плотности полного тока
J = qnv(E) − q |
∂D(E)n + ε |
∂E . |
(5.2) |
|
∂x |
s ∂t |
|
Вне домена концентрация носителей равна n0, а напряжённость поля –
Er. Тогда решение этого уравнения должно иметь вид домена, движущегося со скоростью vDOM без изменения формы, и может быть представлено в виде
E
EDOM 
Er
n |
L |
|
Обогащенный
слой (n < n0)
n0
|
Обедненный |
|
слой (n > n0) |
x — vDOMt |
L |
функций, зависящих только от одной переменной x′ = x − vdomt :
Рис. 5.3. Распределения электрического поля и концентрации электронов для стабильного домена.
24
Ток вне домена состоит только из тока проводимости и определяется выражением J = qn0vr (E). Поскольку
∂E = |
∂E |
и |
∂E = −v |
∂E |
, |
|
∂x′ |
|
|||||
∂x |
|
∂t |
dom ∂x′ |
|
||
выражения (5.1) и (5.2) можно записать следующим образом:
∂E = q n
∂x′ εs
и
d ′ [D(E)n] = n[v(E) − vdom ] − n0(vr − vdom ). dx
При делении одного выражения на другое получается дифференциаль-
ное уравнение для [D(E)n] как функции электрического поля
q |
|
d |
[D(E)n] = |
n[v(E) − vdom ] − n0(vr − vdom ) |
. |
εs |
|
|
|||
|
dE |
|
n |
||
Для решения этого уравнения с учётом полевой зависимости коэффициента диффузии применяются численные методы.
5.2. Программа работы и указания по ее выполнению
p, см– 3
109
108
107
106
105
104
103
102
0 |
2 |
4 |
6 |
8 |
10 |
12 |
14 |
|
|
|
|
x , мкм |
|
|
|
Рис. 5.4. Распределение концентрации примеси в структуре диода Ганна
1.По заданию, выданному преподавателем, построить профиль легирования диода Ганна.
2.По заданной длине диода определить субкритический уровень легирования и рассчитать ВАХ. Определить суперкритическое легирование и
рассчитать ВАХ.