Материал: Основы создания полимерных композитов

Внимание! Если размещение файла нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам

Таблица 4

Анализ поверхности стекловолокна магнийалюмосиликатного состава с помощью Оже-спектроскопии (ат. %)

Стекловолокно

1

А1

|

Si

Mg

О

Волокно

 

12,7

 

18,1

17,2

52,0

Массивное стекло

 

9,7

 

21,8

5,1

63,5

Из анализа таблиц видно, что поверхность волокна из бесщелочного алюмоборосиликатного стекла типа Е обеднена ионами магния и бора при высоком содержании кремния (30%) и алюминия (выше 35%). Поверхность стеклянного волокна магнийалюмосиликатного состава насыщена магнием (в 3,5 раза больше, чем у массивного стекла), содержание кремния несколько ниже. Некоторые авторы [49] делают вывод об отсутствии каких-либо изменений в составе поверх­ ности стекловолокон по сравнению с их объемом. Наоборот, в ра­ боте [50] на основании метода вторичной ионной масс-спектрометрии говорится о незначительном увеличении содержания магния. Этот же метод используют для анализа поверхности стекол и в работах [51, 52], из которых видно, что результаты анализа поверхности стеклово­ локон по сравнению с их объемом достаточно противоречивы. Од­ нако делается общий вывод об обеднении поверхности стекловоло­ кон ионами-модификаторами.

В работе [53] проводился Оже-электронный анализ стекловоло­ кон магнийалюмосиликатного состава в зависимости от глубины травления. Для сравнения использованы данные стандартного хими­ ческого анализа исследуемых стекловолокон (табл. 5). Оже-электрон­ ный анализ проведен на приборе "JAMP-10CC" с анализатором типа цилиндрическое зеркало и катодом LaB6 в вакууме 1 0 - 7 мм Hg. Ин­ тенсивность определялась трехкратным сканированием с последую­ щим усреднением. Точность измерения энергии Е~ 1 эВ.

 

Химический анализ стекловолокон

Таблица 5

 

 

Оксиды

 

Содержание, %

 

б/щ

ВМП

ВМ-1

Si02

54,5

58,5

56,9

А12Оз

13,5

26,1

24,0

MgO

4,3

15,2

15,0

NazO

1,8

0,4

1,9

CaO

16,1

-

-

Все спектры записаны при энергии падающего пучка 2 кэВ и то­ ка через образец ( 1 - 4 ) 10 9А. Волокна укреплялись в прорези мед­ ного держателя и приклеивались серебряной пастой для улучшения проводимости. Спектры получали при разном удалении травленого ионным пучком Аг+ слоя от поверхности. Интенсивность Оже-

31

переходов определялась по высоте пиков, после чего рассчитывали приведенные интенсивности У, каждого компонента. Полученные данные использовали для оценки отношений концентрации компо­ нентов на поверхности и в приповерхностном слое. При этом исполь­ зовали величины коэффициентов чувствительности элементов S, приведенные в работе [131]: S(SO) = 0,35; 5(А1) = 0,25. Расчет осуще­ ствляли по формуле С//Сj ={ji lJj ) (Cj/CJ. Данные, полученные

в результате обработки Оже-электронных спектров, приведены в табл. 6 и 7.

 

 

 

 

 

 

Таблица 6

 

Анализ с помощью Оже-спектроскопии элементного состава

 

 

стекловолокон ВПМ в зависимости от глубины травления

 

г, мин

(I, А

./(Si)

ДА1)

/(О)

АС)

АА1)

СА|

A Si)

Csi

 

 

 

 

 

 

0

0

0,10

0,06

0,37

0,50

0,60

0,84

1

100

0,23

0,05

0,61

0,11

0,29

0,41

3

300

0,17

0,08

0,63

0,12

0,35

0,49

6

600

0,21

0,10

0,59

0,10

0,48

0,67

9

900

0,21

0,10

0,61

0,08

0,48

0,67

12

1200

0,20

0,13

0,63

0,04

0,62

0,87

15

1500

0,24

0,14

0,62

 

0,58

0,82

18

1800

0,27

0,14

0,59

-

0,52

0,72

20

2000

0,26

0,15

0,52

0,58

0,80

Таблица 7

Анализ с помощью Оже-спектроскопии элементного состава стекловолокон ВП-1 в зависимости от глубины травления

(, мин

d, А

/(Si)

AAI)

/(О)

/(С)

АА1)

с А.

/(Si)

CSi

 

 

 

 

 

 

0

0

0,09

0,04

0,30

0,41

0,39

0,54

1

100

0,16

0,05

0,41

0,25

0,31

0,44

3

300

0,19

0,08

0,36

0,18

0,43

0,60

6

600

0,33

0,09

0,45

0,13

0,27

0,38

9

900

0,34

0,08

0,50

0,07

0,27

0,34

12

1200

0,32

0,11

0,49

0,08

0,34

0,48

15

1500

0,31

0,11

0,55

0,03

0,35

0,49

18

1800

0,30

0,14

0,53

0,04

0,47

0,66

20

2000

0,27

0,12

0,58

0,03

0,44

0,62

Прежде чем приступить к анализу экспериментальных данных табл. 6 и 7, необходимо отметить малую величину отношения сигнал/шум (SIN) на спектрах, что связано с диэлектрическим состоя­ нием исследуемых волокон. Это существенно снижает возможности количественного анализа как основных компонентов (Si, Al, Mg), так и примесей с высокоэнергетическими Оже-переходами (Na).

32

Распределение атомов кремния, алюминия и кислорода в зависи­ мости от глубины травления приповерхностного слоя стекловолокон типа ВМП и ВМ-1 приведены на рис. 1 и 2.

По сравнению с "объемом" поверхность волокон обеднена всеми

основными компонентами.

Начиная

с глубины

травления

d = 500 -г- 600 А, концентрация

основных

компонентов

стабилизиру­

ется на определенном уровне и уже практически не зависит от тол­ щины удаляемого слоя. Однако само отношение содержания катио­ нов алюминия и кремния (См I Csi) на поверхности и приповерхност­ ном слое волокон ВМП и ВМ-1 является близким к постоянному зна­ чению при небольшом повышении этого отношения вглубь образцов. Если сравнить это отношение с данными химического анализа, то видно, что наблюдается незначительное обогащение поверхности исследуемых стекловолокон катионами алюминия по сравнению с катионами кремния при среднем отношении содержания алюминия к содержанию кремния на поверхности стекловолокна ВМП 0,7 1,0 и ВМ-1 0,5: 1,0.

J

О

Si

AI

д

О

О

С

Рис. 1. Распределение основных компонентов по толщ ине приповерхностного слоя волокна ВМ П

J

О Si

□ AI

д О

О С

Рис. 2. Распределение основных компонентов по толщ ине приповерхностного слоя волокна марки ВМ-1

33

Отсутствие на Оже-спектрах линий, принадлежащих катионам магния, несколько снижает ценность полученной информации. Од­ нако этот факт можно объяснить двумя причинами. Во-первых, как мы отмечали выше, диэлектрическое состояние используемых объек­ тов подразумевает сложности с определением некоторых катионов, в частности, магния. Во-вторых, этот факт не противоречит приведен­ ным в работах [46 - 49] данным, говорящим о том, что на поверхно­ сти и в приповерхностном слое волокон по сравнению с "объемом" наблюдается обеднение катионами-модификаторами. Что касается довольно значительного разброса значений содержания магния по сравнению с представленными в табл. 4, то это, по-видимому, можно объяснить данными работы [14].

1.2.2. Природа активных центров на поверхности стекловолокна

Проведенный авторами работ [54, 55] анализ измерения внутрен­ него трения стеклянных волокон различных составов и диаметров, рассматриваемых в исходном состоянии и после травления плавико­ вой кислотой, показал присутствие на поверхности всех исследуемых волокон напряженного поверхностного слоя, отличающегося по структуре от “объема” При этом за поверхностный слой принима­ ется граничная фаза, в которую проникает молекулярный азот (ар­ гон) [56], равная 0,3 - 0,6 мкм. Наличие аномального слоя на поверх­ ности стекловолокон связывается с наличием сжимающих термоуп­ ругих напряжений, возникающих в результате различных скоростей охлаждения поверхности и “объема” волокон.

Авторы работы [57] методом анодной электрохимической обра­ ботки исследовали приповерхностные слои стекла. При этом так же, как и авторы работ [58, 59], наблюдали несколько зон: 1) приповерх­ ностный слой до нескольких десятков ангстрем, состоящий из про­ дуктов взаимодействия стекла и окружающей среды; 2) слой толщи­ ной до 800 - 1000 А, обедненный щелочными и щелочноземельными оксидами и имеющий более высокую степень полимеризации кремне­ кислородного каркаса по сравнению с основной матрицей стекла; 3) слой до нескольких микрон, характеризующийся увеличением со­ держания щелочных и щелочноземельных оксидов с уменьшением степени полимеризации до уровня основной матрицы стекла; 4) слой с постоянным значением содержания щелочных и щелочноземельных оксидов. Первые два слоя отвечают за реакцию адгезионного взаимо­ действия.

Структура поверхностных слоев стеклянных волокон заметно отличается от внутренних не только благодаря различному тепло­ вому прошлому, но и из-за возможности вступать в химическое взаи­ модействие с окружающей средой [60], в результате которого проис­ ходит перегруппировка структурных элементов поверхности и обра­ зование на ней новых функциональных групп. Углекислый газ при взаимодействии с поверхностью стекловолокон образует карбонаты

34

и гидрокарбонаты щелочных и щелочноземельных металлов [59, 61, 62], вызывая тем самым обесщелачивание поверхностных слоев. По­ следнее, в свою очередь, сопровождается перестройкой структуры кремнекислородного каркаса с увеличением связанности. Следова­ тельно, на ИК-спектрах усиливаются колебания силоксановых свя­

зей, а колебания групп -^Si-O-Na и колебания адсорбированной

в л а ги - ^ S i- O —H -гр у п п о сл а б л я ю т с я .

Для кремнекислородного каркаса стекол вода также является по­ верхностно-активным веществом, вызывающим деполимеризацию поверхностных слоев каркаса [61, 63, 64]. При этом различают не­ сколько типов адсорбционных центров на поверхности стекловоло­ кон, отвечающих за адгезионное взаимодействие [65]. К ним отно­ сятся протонодонорные или бренстедовские кислотные центры, элек­ троноакцепторные или льюисовские (основные центры). Кислотные бренстедовские центры относят к силанольным группам, возмущен­ ным адсорбцией воды. Таких центров тем меньше, чем более разно­ образен спектр структурных элементов стекла. И наиболее сильно увеличивает их число оксид магния. В работах [66, 67] рассматрива­ ется влияние других элементов на активность и свойства поверхности стеклянных волокон. Сделан однозначный вывод о зависимости свойств поверхности от состава.

Электроноакцепторные центры связывают с образованием тет­ раэдров типа (М04/2)Н+. Проявляются они достаточно активно для случаев трехкомпонентных стекол. Основные центры связаны с при­ сутствием на поверхности стеклянных волокон двух типов кислорода: 1) немостиковый кислород; 2) мостиковый кислород с избыточной электронной плотностью, возникающей из-за дефектов [68]. С повы­ шением температуры резко уменьшается число бренстедовских ки­ слотных центров. Количество льюисовских центров также уменьша­ ется, но в меньшей степени.

Авторы работы [69] методом MINDO/3 проводили расчет зави­ симости энергии межатомных взаимодействий в кремнекислородных катионах от величины отношения числа атомов кремния к атомам кислорода (/si/o). Установлено, что наибольшей электронодонорной

способностью характеризуются атомы немостикового кислорода и комплексный анион Si** С увеличением содержания кремния удель­

ная электронодонорная способность кремнекислородных анионов понижается и соответственно повышается их электроноакцепторная способность, т.е. в стеклах модификаторы с высокой электронодо­ норной способностью, такие, например, как щелочные металлы, бу­ дут взаимодействовать с крупными анионами, имеющими высокие значения fsuo. И наоборот, небольшие кремнекислородные анионы будут взаимодействовать с наиболее электроотрицательными металла­ ми.

35

Источник: https://studfile.net/preview/19992742/