2. ТКЛР |
–7 |
–7 |
–7 |
|
|
|
–7 |
–7 |
–7 |
|
||
при |
|
–7 |
|
–7 |
–7 |
|||||||
Т = 20 – |
|
|||||||||||
(41 2)10· |
(48 2)10· |
(50 2)10· |
55·10 |
|
80·10 |
(60 5)10· |
(70-75)10· |
(73-78)10· |
70·10 |
|||
300 оС |
|
|||||||||||
|
|
|
||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
3. Коэффиц |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
иент тепло- |
|
|
|
7 – |
14 |
|
|
30 |
1,2 – |
|
||
проводно- |
1 |
1,5 |
1,5 |
33,5 |
10 |
– |
210 |
|||||
15 |
0 |
1,7 |
||||||||||
сти |
|
|
|
|
|
|
45 |
|
||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||
Вт/(м °С) |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
4. Диэлектр |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
ическая |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
проницае- |
|
3,2 |
5 – |
|
|
|
|
10, |
13 – |
6,4 – |
||
мость при |
7,5 |
3,8 |
|
10,6 |
10,3 |
|||||||
– 8 |
8,5 |
|
5 |
16 |
9,5 |
|||||||
f = 106 Гц |
|
|
|
|
|
|||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||
и Т = 20 °С |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
5. Тангенс |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
угла ди- |
4 |
|
4 |
|
|
|
|
4 |
4 |
4 |
||
электриче- |
|
|
|
|
4 |
|||||||
ских потерь |
– |
|
– |
|
|
|
– |
– |
– |
– |
||
20·10 |
|
20·10 |
– |
|
|
6·10 |
10·10 |
18·10 |
16·10 |
|||
при |
|
|
|
|
||||||||
6 |
|
|
|
|
||||||||
f = 10 |
Гц и |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Т = 20 °С |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
6. Объем- |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
ное сопро- |
101 |
101 |
|
|
|
|
|
|
|
101 |
||
тивление |
|
15 |
|
|
– |
– |
– |
|||||
при |
|
7 |
4 |
|
10 |
|
|
4 |
||||
|
|
|
|
|
|
|
||||||
Т = 20 ºС, |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
Ом см |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
7. Электри- |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
ческая |
40 |
40 |
– |
– |
|
|
50 |
– |
50 |
20 |
||
прочность, |
|
|
||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||
кВ/мм |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
В последнее время для изготовления гибридных БИС и микросборок применяют гибкие подложки из полимерных материалов, например, полиамидных пленок толщиной 40 – 50 мкм. Для этих пленок возможна двусторонняя обработка и вакуумное нанесение металлических пленок для создания двухслойной разводки, а также фототравление отверстий для создания металлизированных переходов между слоями.
Основные трудности при разработке печатных плат на металлических основаниях связаны с формированием на поверхности металлов диэлектрического разделительного слоя, обеспечивающего надежную
12
электроизоляцию токопроводящего рисунка схемы от металлической основы при достаточно высокой теплопроводности. Диэлектрические покрытия могут быть полимерные, оксидные или комбинированные.
На алюминиевых основаниях электроизоляционное анодирование проводится в растворе на основе щавелевой кислоты (50 г/л) в гальваностатическом режиме при 20 – 25 °С с последующим кипячением в дистиллированной воде в течение 30 мин. Анодные оксидные пленки на алюминии характеризуются достаточно высокими электроизоляционными свойствами, их теплопроводность на порядок выше теплопроводности органических полимерных материалов. Анодные оксидные покрытия отличаются также высокой равномерностью даже на сложно профилированных изделиях. В то же время данные оксидные покрытия склонны к растрескиванию при нагревании из-за большого различия температурных коэффициентов расширения алюминиевого основания и оксида и низкой эластичности последнего, что не позволяет удовлетворить высокие требования к электроизоляционным свойствам покрытия (напряжение пробоя более
2кВ).
Впроцессе сборки интегральных микросхем, БИС и микросборок выполняют большое количество электрических соединений: контактных площадок кристалла с выводами корпуса (ИС, БИС); выводов кристалла и компонентов с
13
внутренними контактными площадками платы (гибридные ИС (БИС)); периферийных контактных площадок платы с выводами корпуса (микросборки).
Для данных операций применяют проволочный или беспроволочный монтаж. Применение микронной алюминиевой проволоки, наряду с экономией золота, позволяет выпускать особо надежные полупроводниковые приборы и ИС. В табл. 1.3 приведены основные параметры алюминиевой проволоки.
Для сборки ГИС используются также лудящие пасты, представляющие собой смесь припойного порошка и флюс – связки. Использование паст позволяет автоматизировать процесс монтажа навесных компонентов на плату, что обеспечивает высокую производительность сборки в целом.
Лудящая паста применительно к автоматизированной сборке толстопленочных ГИС должна удовлетворять следующим требованиям: сохранять постоянное значение вязкости в процессе нанесения; отвечать условиям трафаретной печати; обеспечивать высокую прочность соединяемых элементов; не быть коррозионно-активной; не вызывать повреждений соединяемых элементов во время пайки и после нее; быть недорогой. Как показали исследования, наилучшими технологическими свойствами обладает лудящая паста на основе канифольсодержащего флюса
иприпоя ПОС61 с размером частиц 40 – 60 мкм.
1.2.Термины и определения в производстве ИС
Интегральная схема (ИС) представляет собой совокупность электрически связанных и конструктивно неотделимых микроэлементов, непосредственно формируемых в процессе изготовления схемы на поверхности или в объеме общего основания. Полупроводниковые ИС являются одним из наиболее удобных типов ИС с точки зрения их применения, т. к. они являются наиболее надежными и самыми дешевыми из всех интегральных структур.
Таблица 1.3 Микронная алюминиевая проволока
Материал, марка |
Диа-метр, мкм |
Состояние поставки |
Временное сопротивление разрыву, мПа |
Относительное удлинение, % |
Удельное электросопротивление Ом м, не более |
Назначение |
|
|
|
|
|
|
|
|
27 |
Твер- |
300 – |
1 – 6 |
3,5 10- |
|
|
|
дое |
400 |
2 – 6 |
8 |
|
|
|
|
|
|||
|
|
Мягкое |
200 – |
|
|
|
|
|
|
310 |
|
|
|
|
30 |
Твер- |
300 – |
1 – 6 |
3,5 10- |
|
|
|
дое |
400 |
2 – 6 |
8 |
|
|
|
|
|
|||
|
|
Мягкое |
200 – |
|
|
|
|
|
|
300 |
|
|
|
Проволока |
35 |
Твер- |
300 – |
2 – 6 |
3,5 10- |
Для мик- |
микронная |
|
дое |
400 |
4 – 6 |
8 |
росварки |
|
|
|||||
из Al – Si |
|
Мягкое |
200 – |
|
|
полупро- |
|
|
|
воднико- |
|||
сплава |
|
|
300 |
|
|
|
|
|
|
|
вых при- |
||
(АКО, 9П) |
40 |
Твер- |
300 – |
2 – 6 |
3,5 10- |
|
|
|
дое |
400 |
4 – 6 |
8 |
боров и |
|
|
ИС |
||||
|
|
|
||||
|
|
Мягкое |
200 – |
|
|
|
|
|
|
|
|
||
|
|
|
300 |
|
|
|
|
50 |
Твер- |
300 – |
1 – 6 |
3,5 10- |
|
|
|
дое |
400 |
1 – 6 |
8 |
|
|
|
|
|
|||
|
|
Мягкое |
200 – |
|
|
|
|
|
|
300 |
|
|
|
14
|
60 |
|
|
|
|
|
|
80 |
|
|
|
|
|
|
100 |
|
200 – |
|
|
|
|
150 |
|
|
3,5 10- |
|
|
|
|
300 |
2 – 12 |
|
||
|
200 |
|
200 – |
2 – 12 |
8 |
|
|
250 |
|
|
|
||
|
|
300 |
|
|
|
|
|
300 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
400 |
|
|
|
|
|
|
500 |
|
|
|
|
|
Проволока |
200 |
|
|
|
|
Для |
прецизион- |
– |
|
|
|
|
сборки |
ная из мик- |
400 |
|
|
|
3,5 10- |
мощных |
ролегиро- |
|
|
|
полупро- |
||
|
|
44 – 66 |
5 – 25 |
|||
ванного |
|
|
8 |
воднико- |
||
|
|
|
|
|
||
алюминие- |
|
|
|
|
|
вых при- |
вого сплава |
|
|
|
|
|
боров |
(АОЦПоМ) |
|
|
|
|
|
|
К недостаткам полупроводниковых ИС относится ограничение параметров пассивных элементов. Кроме того, пассивные элементы этих устройств имеют сравнительно большой коэффициент напряжения и температурный коэффициент, а также большое число паразитных связей между элементами.
Важной конструктивно-технологической характеристикой ИС является степень интеграции
K = lg·N,
где N – количество элементов, объединенных общей подложкой.
Увеличение степени интеграции ИС дает возможность повышать качественные показатели и надежность МЭА за счет сокращения числа паяных и сварных соединений. Уменьшение объема монтажносборочных работ приводит также к снижению стоимости МЭА.
Последнее десятилетие характеризуется использование СБИС шестой степени интеграции (К = 6·105 < N 106). Выпускаются БИС и СБИС, выполняющие
15
по заданной программе определенные функции (например, ввод и вывод информации, ее хранение и др.) и являющиеся основой микро-ЭВМ. Такие БИС и СБИС называют микропроцессорами.
По функциональному признаку микросхемы разделяются на два класса: цифровые и аналоговые. Цифровые микросхемы предназначены для преобразования и обработки сигналов, изменяющихся по закону дискретной функции. Аналоговые микросхемы предназначены для преобразования и обработки сигналов, изменяющихся по закону непрерывной функции. Частным случаем аналоговых микросхем являются микросхемы с линейной характеристикой, так называемые линейные микросхемы.
Аналоговые и цифровые схемы подвергаются длительным испытаниям при повышенных температурах (например, в течение 1000 ч при 150 °С без нагрузки). Испытания на время наработки на отказ обычно проводятся при 125 ºС в течение 1000 ч при 50 %-ной нагрузке. Для аналоговых схем это означает включение и выключение Uкк с частотой от 1 до 100 кГц, а для цифровых схем – периодическую подачу на вход "0" и "1" с частотой от 1 до 100 кГц. При необходимости проводят испытания в условиях повышенной влажности в камере при 30 – 60 ºС и относительной влажности 90 – 98 %. Эти испытания длятся в течение 1000 ч в режиме 50 %-ной циклической нагрузки.
16
|
Отказы аналоговых и цифровых схем подразде- |
|
|
тов) и кристаллов, ко- |
||||||
ляются на три группы: |
|
|
|
|
|
|
торые с точки |
зрения |
||
|
1) отказы, связанные с явлениями в объеме кри- |
|
|
требований к |
испыта- |
|||||
сталла; |
|
|
|
|
|
|
|
ниям, приемке, постав- |
||
|
2) отказы, зависящие от состояния контактных |
|
|
ке и эксплуатации рас- |
||||||
соединений; |
|
|
|
|
|
|
|
сматриваются как еди- |
||
|
3) отказы, обусловленные явлениями на поверх- |
|
|
ное целое. |
|
|||||
ности кристаллической структуры. |
|
|
|
|
|
|
|
|||
|
В производстве интегральных микросхем в соот- |
|
|
|
|
|||||
ветствии с действующими Гос. стандартами приме- |
|
|
|
|
||||||
няют специальные термины и определения (табл. 1.4). |
|
|
|
|
||||||
|
|
|
|
Таблица 1.4 |
|
|
|
|
||
|
Специальные термины и определения |
|
|
|
|
|
|
|||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Краткая |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
форма |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Термин |
стандарти- |
Определение |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
зованного |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
термина |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
1 |
2 |
3 |
|
|
|
|
|
|
|
|
Инте- |
Микросхе- |
Микроэлектронное из- |
|
|
|
|
|
||
|
гральная |
ма (ИС) |
делие, выполняющее |
|
|
|
|
|
||
|
микро- |
|
определенную |
функ- |
|
|
|
|
|
|
|
схема |
|
цию преобразования |
и |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
обработки сигналов |
и |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
имеющее |
высокую |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
плотность |
упаковки |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
электрически |
соеди- |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
ненных элементов (или |
|
|
|
|
|
||
|
|
|
элементов и компонен- |
|
|
|
|
|
||
17
|
|
Продолжение таблицы 1.4 |
|
микро- |
|
|
поненты и (или) кри- |
||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
схема |
|
|
сталлы. |
|
|
|
|
|
1 |
2 |
|
3 |
|
|
|
|
|
Кристалл |
|
Кристалл |
Часть |
полупроводни- |
||||
Элемент |
Элемент |
Часть |
интегральной |
|
|
инте- |
|
|
ковой пластины, в объ- |
||||||||
инте- |
|
микросхемы, |
|
реали- |
|
|
гральной |
|
|
еме и |
на |
поверхности |
|||||
гральной |
|
зующая функцию како- |
|
|
микро- |
|
|
которой сформированы |
|||||||||
микро- |
|
го-либо ЭРЭ (транзи- |
|
|
схемы |
|
|
элементы |
полупровод- |
||||||||
схемы |
|
стора, диода, резистора |
|
|
|
|
|
|
никовой |
интегральной |
|||||||
|
|
и др.), которая выпол- |
|
|
|
|
|
|
микросхемы, |
межэле- |
|||||||
|
|
нена |
нераздельно |
от |
|
|
|
|
|
|
ментные соединения и |
||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
18 |
|
|
|
|
|
|
кристалла или подлож- |
|
|
|
|
|
|
контактные площадки. |
||||||||
|
|
ки и не может быть вы- |
|
|
|
|
|
Продолжение таблицы 1.4 |
|||||||||
|
|
делена |
как |
самостоя- |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
|
|
тельное изделие с точ- |
|
1 |
|
2 |
|
|
3 |
|
|
||||||
|
|
ки зрения требований к |
|
Бескор- |
|
Бескорпусная |
Кристалл |
интеграль- |
|
||||||||
|
|
испытаниям, |
|
приемке, |
|
пусная |
|
микросхема |
ной |
микросхемы, |
|
||||||
|
|
поставке и |
эксплуата- |
|
инте- |
|
|
|
предназначенный |
|
|||||||
|
|
ции. |
|
|
|
|
|
гральная |
|
|
|
для монтажа в гиб- |
|
||||
Компо- |
Компонент |
Часть |
интегральной |
|
микро- |
|
|
|
ридную |
интеграль- |
|
||||||
нент ин- |
|
микросхемы, |
|
реали- |
|
схема |
|
|
|
ную микросхему или |
|
||||||
теграль- |
|
зующая функцию како- |
|
|
|
|
|
|
микросборку. |
|
|||||||
ной мик- |
|
го-либо ЭРЭ, которая |
|
Подложка |
|
Подложка |
Заготовка из диэлек- |
|
|||||||||
росхемы |
|
может |
быть |
|
выделена |
|
инте- |
|
|
|
трического материа- |
|
|||||
|
|
как |
самостоятельное |
|
гральной |
|
|
|
ла, предназначенная |
|
|||||||
|
|
изделие с точки зрения |
|
микро- |
|
|
|
для нанесения на нее |
|
||||||||
|
|
требований |
к |
испыта- |
|
схемы |
|
|
|
элементов |
гибрид- |
|
|||||
|
|
ниям, приемке, постав- |
|
|
|
|
|
|
ных |
интегральных |
|
||||||
|
|
ке и эксплуатации. |
|
|
|
|
|
|
|
микросхем, |
межэле- |
|
|||||
Гибрид- |
Гибридная |
Интегральная |
микро- |
|
|
|
|
|
|
ментных и (или) |
|
||||||
ная инте- |
микросхе- |
схема, |
содержащая |
|
|
|
|
|
|
межкомпонентных |
|
||||||
гральная |
ма (ГИС) |
кроме |
элементов |
ком- |
|
|
|
|
|
|
соединений, |
а также |
|
||||