Материал: FKhOT_1_Obschie_svedenia_i_vyraschivanie_slitkov

Внимание! Если размещение файла нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам

ФИЗИКО-ХИМИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ ТЕХНОЛОГИИ ЭЛЕКТРОННЫХ СРЕДСТВ

Тема 1. Общие сведения о технологии ИМС. Выращивание слитков кремния

Конспект лекций Смирнов В.И., кафедра ПиТЭС, УлГТУ

Смирнов В. И. Физико-химические

 

 

основы технологии электронных

Лекции

32

 

средств. Учебное пособие. Ульяновск:

Лабораторные

16

 

Изд-во УлГТУ. 2005. – 111 с.

Общие сведения об интегральных микросхемах

Интегральная микросхема (ИМС) — это изделие, выполняющее определенную функцию преобразования и обработки сигнала и имеющее высокую плотность упаковки электрически соединенных элементов, которые могут рассматриваться как единое целое, выполнены в едином технологическом процессе и заключены в герметизированный корпус.

ИМС классифицируют по следующим признакам:

-по виду обрабатываемого сигнала;

-по степени интеграции;

-по функциональному назначению;

-по технологии изготовления.

Классификация интегральных микросхем по технологии

 

их изготовления

1.1

 

 

 

По технологии изготовления ИС делятся на две основные группы: полупроводниковые и гибридные микросхемы.

Полупроводниковые ИС

Структура транзисторов биполярного (а), полевого (б) и резистора (в)

Ограничения полупроводниковой технологии ИС Невозможность изготовления прецизионных резисторов

(технологический разброс параметров порядка 10 %).

Проблемы с изготовлением резисторов и конденсаторов больших номиналов

Проблемы с большой рассеиваемой тепловой мощностью

Классификация интегральных микросхем по технологии

 

их изготовления (продолжение)

1.2

 

 

Гибридные ИС

 

Взависимости от технологии формирования пассивных элементов различают тонкопленочные и толстопленочные ГИС

Вотдельные группы выделяют пленочные и совмещенные ИС. Пленочные ИС – это наборы элементов (резисторов или конденсаторов)

Всовмещенных ИС активные элементы (транзисторы и диоды) формируются в приповерхностном слое полупроводниковой пластины, а пассивные элементы (резисторы, конденсаторы и т.д.) – на ее поверхности по пленочной технологии.

Особенности формирования структуры полупроводниковой ИС

на примере эпитаксиально-планарного транзистора

1.3

Фрагмент электронного

Структура инвертора (неудачная структура)

устройства (инвертора)

 

Структура эпитаксиально-планарного транзистора

Источник: https://studfile.net/preview/16675746/