Пройдя входную щель, свет попадает на параболический зеркальный объектив 15 и, отразившись от него, разлагается в спектр призмой 16. Разложенный в спектр свет, отразившись от зеркала Литтрова 17, вторично проходит призму и фокусируется объективом 15 на выходную щель 18. При повороте зеркала 17 на выходную щель направляются лучи различных длин волн. Изображение выходной щели проектируется зеркалами 19, 20 и эллиптическим зеркалом 21 на приемную площадку болометра 22 с уменьшением 12*. Зеркало 20 состоит из двух частей: полированной и матовой. Матовая часть зеркала 20 устанавливается для устранения рассеянного света в длинноволновой части спектра.
Щели монохроматора – симметричные и раскрываются одновременно в пределах 0,01-3 мм. Для компенсации кривизны изображения спектра, вносимой призмой, лезвия ножей входной щели изготовлены изогнутыми; благодаря этому на входную щель приходит выпрямленное изображение спектра. В зависимости от рабочего спектрального интервала в качестве диспергирующего элемента используют кварц (УФдиапазон), стекло (видимый диапазон), NaCl, LiF, KBr (ИК – диапазон).
Общий недостаток спектрометров – это необходимость их градуировки. Для градуировки наиболее часто применяют эталонные спектры. В ультрафиолетовой и видимой области используются линии ртути, а в инфракрасной – спектры поглощения паров жидкостей, например СО2, хлороформа и др. Для каждой призмы, а также при их смене необходима повторная градуировка.
3.6.6. Определение параметров полупроводников из спектров поглощения
Оптические переходы, приводящие к появлению избыточных носителей в зоне проводимости в полупроводниках, бывают двух типов: прямые и непрямые. При непрямых переходах электронов из зоны в зону
141
поглощаются или испускаются фононы. Прямые переходы проходят без участия фононов и играют существенную роль только тогда, когда экстремумы зоны проводимости и валентной зоны находятся при одном и том же значении квазиимпульса. Если же минимум зоны проводимости и максимум валентной зоны расположены при различных значениях квазиимпульса, то в этих случаях наблюдаются непрямые переходы. При непрямых переходах происходит либо поглощение фотона и фонона, либо поглощение фотона и испускание фонона. Непрямые переходы наблюдаются в германии, кремнии, карбиде кремния и других полупроводниках. Вид переходов играет существенную роль при выборе полупроводникового материала для квантовых генераторов. Тип оптических переходов определяют по виду экспериментальной спектральной зависимости поглощения вблизи основной полосы, сравнивая её с кривой, рассчитанной теоретически.
Существует пять процессов поглощения в полупроводниках в области собственного и примесного поглощения:
-Поглощение, связанное с переходами через запрещенную зону.
-Поглощение, связанное с переходами в пределах одной зоны (поглощение на свободных носителях).
-Примесное поглощение.
-Поглощение на колебаниях решетки.
-Экситонное поглощение.
Исследуя различные процессы поглощения, можно определить те или иные параметры полупроводников. Рассмотрим некоторые из них.
1. Поглощение, связанное с переходами через запрещенную зону.
Этому процессу сопутствует собственная фотопроводимость. Зависимость коэффициента поглощения в этой
142
области от энергии фотонов (от длины волны) позволяет определить следующие свойства полупроводника:
а) ширину запрещенной зоны Е и её зависимость от температуры, давления, электрического и магнитного поля, концентрации примесей. Если полупроводник – твердый раствор, то можно определить зависимость ширины запрещенной зоны от состава компонентов полупроводника, например при исследовании свойств соединений Ge-Si или
(GaAs)x(GaP)1-x;
б) зонную структуру, т.е. зависимость энергии от квазиимпульса; в) типы колебаний решетки (спектр фотонов).
Так, например, из теории следует, что зависимость коэффициента поглощения от энергии квантов света имеет следующий вид:
прям. h E 1/ 2 , |
(3.55) |
непрям. h E h фононов z , |
(3.56) |
где 2 z 3.
Построив спектральную зависимость поглощения в
координатах 2- f(h) для прямозонного полупроводника (рис. 3.18 а), или 1/2- f(h ) – для непрямозонного (рис. 3.18 б), можно получить линейные участки этих зависимостей в некотором интервале значений энергий фотонов. Для прямозонного полупроводника пересечение продолжения этой прямой с осью абсцисс позволяет определить ширину запрещенной зоны.
В области непрямых переходов зависимость 1/z от представляется в виде прямой линии с изломом (рис. 3.18 б). В области больших энергий процесс происходит с испусканием
фонона, т.е. непрям1/ z E h фон. . Вблизи края поглощения 1/zЕ- hфон. Исследуя зависимость от h, можно определить
143
как ширину запрещенной зоны Е, так и спектр фононов исследуемой кристаллической решетки hфононов.
а) |
б) |
Рис. 3.18. Определение ширины запрещенной зоны из спектра собственного поглощения света в прямозонном (а) и непрямозонном полупроводниках при температурах:
1 – Т = 195 К; 2 - Т = 245 К; 3– Т = 290 К; 4 – Т = 333 К
2. Поглощение, связанное с переходами в пределах одной зоны (поглощение на свободных носителях).
Спектр поглощения существенно различается для зоны проводимости и валентной зоны. Для электронов в широком диапазоне спектра 2. Для дырок в определенной области спектра зависимость сложнее: она определяется переходами из одной ветви валентной зоны в другую, так как во многих случаях валентная зона является вырожденной при значениях квазимпульса, равных нулю. Изучая поглощение такого рода можно определить: а) эффективные массы проводимости электронов и дырок; б) структуру валентной зоны; в) концентрацию свободных носителей по положению пика поглощения.
144
Например, в той области, где >> m*, можно определить из выражения
|
|
N 2 e3 |
|
|
|
|
||
|
|
|
0 |
|
|
, |
(3.57) |
|
4 |
2 |
0 |
m *с3 |
п |
|
|||
|
|
|
n |
|
n |
|
||
если N-(концентрация носителей заряда) и n (подвижность) найдены другими, например из эффекта Холла. 0 – длина волны в вакууме, 0 – диэлектрическая проницаемость вакуума, n- коэффициент преломления, с – скорость света в вакууме.
3. Примесное поглощение.
Этот вид поглощения связан с переходами между локальным уровнем, расположенным в запрещенной зоне, и зоной проводимости или валентной зоной. Примесное поглощение обычно исследуют при концентрации примесей более чем 105 атом/см3 и низких температурах. В частности, для примесей III и V групп в германии и кремнии измерения следует проводить при температуре жидкого гелия, а для глубоких уровней (Ni, Fe, Cu, Au др., когда Е 0,1-0,5 эВ) при температуре жидкого азота. При большом содержании таких примесей возможно вести измерения и при комнатной температуре. Для полупроводниковых соединений типа АIIBVI, таких как CdS, энергия ионизации примесей составляет 0,5-1 эВ при ширине запрещенной зоны порядка несколько электронвольт. При этом измерение спектров поглощения можно производить при комнатной температуре и в области длин волн, соответствующих видимому и ближнему инфракрасному участку спектра.
Исследуя примесное поглощение, можно определить энергию активации примесного уровня, а зная сечение
фотоионизации , можно оценить концентрацию примеси: N = / .
Различные дефекты, такие как вакансии и дислокации, также дают характерные спектры поглощения. Повышенное содержание дефектов вблизи края поглощения приводит
145